|
Главная -> Сведения в электровакуумных приборах 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 [48] 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 Рис. 12.4. Ход лучей в коническом элементе рельефной подложки фотокатода ному, а процессы взаимодействия фотонов с электронами переносятся ближе к эмиттирующей поверхности. Эффективньш способом повышения чувствительности полупрозрачных фотокатодов является использование явления полного внутреннего отражения потока излучения от границ раздела фотокатод- вакуум и стекло-воздух. Узкий параллельный пучок света вводится через призму, оптически согласованную с материалом стекла, под углом, превышающим угол полного внутреннего отражения (рис. 12.3). На границе фотокатод-вакуум луч полностью отражается и про)одит второй раз через слой фотокатода. Условия полного внутреннего отражения должны обеспечиваться также на границе стекло-воздух, тогда луч будет многократно отражаться в слое фотокатода до полного поглощения. Фоточувствительный слой в этом случае может быть очень тонким, вследствие чего вероятность вьгхода .возбужденных электронов резко увеличится. Чувствительность фотокатода будет приближаться к теоретическбму пределу, зависящему от материала фотокатода. Если фотоэлектронный прибор предназначен для работы с широким пучком света и применение наружных оптических систем не предусмотрено, то для пол5П1ения полного внутреннего отражения используется рельефная подложка фотокатода. На рис. 12.4 показан ход лучей в одном элементе рельефной подложки. Применение рельефной подложки дает меньший эффект по сравнению с плоским фотокатодом и наружной призмой. Это объясняется частичным поглощением потока излучения фотокатодом, так как полное внутреннее отражение происходит только на границе фотокатод-вакуум. Небольшое повьпнение чувствительности может быть получено даже в том случае, если внутреннюю поверхность стекла, на которую наносится фотоэмиссионный слой, подвергнуть механическому матированию (насечке мелкого рельефа). 12.3. СОВРЕМЕННЫЕ ФОТОКАТОДЫ Вид спектральной характеристики фотокатодов определяется материалом и толщиной фоточувствительного слоя, а также материалом подложки и оптического окна. Стекло баллона, являющееся оптическим окном, у ряда фотокатодов служит подложкой фоточувствительного материала. По спектральным характеристикам фотокатоды подразделяются на три типа: фотокатоды, применяемые в приборах для измерений в видимой, ближней ИК- и УФ-областях оптического диапазона спектра. Характеристики некоторых фотокатодов охватывают широкий спектральный диапазон от УФюбласти до ближней ИКюбла-стй, однако по ряду причин их применение, как правило, ограничивается более узкой областью спектра. Сурьмяно-цезиевый (Sb-Cs) фотокатод является наиболее распространенным для приборов, работающих в видимой области спектра. Фотокатод может быть вьшолнен как массивным, так и полупрозрачным. В качестве материала фоточувсгвительного слоя используется соединение сурьмы с цезием CssSb, на поверхности которого адсорбирована пленка цезия, снижающая работу выхода фотоэлектронов. Массивные Sb-Cs-фотокатоды изготовляются напылением сурьмы путем термического испарения в вакууме на металлическую подложку, затем сурьма обрабатьшается в парах цезия. При изготовлении полупрозрачных фотокатодов пленка напыленного на стеклянную подложку слоя сурьмы имеет толщину 5-6 нм. После обработки в парах цезия пленка сурьмы разбухает до толщины 25-35 нм и имеет прозрачность 35-50%. В целях увеличения электропроводности фоточувствительного слоя на стеклянную подложку предварительно напыляют в вакууме пленку хрома или двуокиси олова. Увеличения чувствительности Sb-Cs-фотокатода в 1,5-2 раза можно достигнуть путем обработки поверхности фоточувствительного слоя кислородом. Эта операция, назьшаемая сенсибилизацией фотокатода, приводит также к снижению фотоэлектронной работы выхода. На рис. 12.5 приведены спектральные характеристики обычного (кривая*7) и сенсибилизированного (кривая 2) Sb-Cs-фотокатодов. Из рисунка видно, что сенсибилизация сдвигает спектральную характеристику в длинноволновую область. В серийных фотоэлектронных приборах световая чувствительность массивных Sb-Cs-фотокатодов достигает 120 мкА/лм, полупрозрачных - примерно 100 мкА/лм. Плотность тока термоэлектронной эмиссии несенсибилизированных фотокатодов при комнатной темрературе составляет 10-10" А/см, сенсибилизированных - 10" А/см, квантовый выход достигает 0,25-0,3. Одним из серьезных недостатков Sb-Cs-фотокатода является утомление при увеличении тока, снимаемого с фотокатода. Заметное ухудшение чувствительности наступает при плотностях тока, превышающих 1 мкА/см. Многощелочной фотокатод образуется при соединении сурьмы с атомами трех щелочных металлов: калия, натрия и цезия - Naa KSb (Cs). Этот фотокатод по сравнению с Sb-Cs-фотокатодом обладает более высокой световой чувствительностью и квантовым выходом в видимой области спектра. Световая чувствительность многощелочных фотокатодов достигает 400 мкА/лм, а квантовый выход в максимуме спектральной характеристики может быть равен 0,4. Плотность тока термоэлектронной эмиссии при комнатной температуре не превышает 10" А/см. Полупрозрачные многощелочные фотокатоды имеют меньшее продольное сопротивление, чем сопро- 81Л) 0,8 0,6 О,"
SfX), УГЛ.) 0,8 300 WD 500 Л, нм 300 WO 500 600 Рис. 12.5. Спектральные характеристики сурьмяноч1езиевых фотокатодов Рис. 12.6. Спектральные характеристики висмуто-серебряно-цезиевого фотокатода и относительной видности тивление сурьмяно-цезиевых фотокатодов, поэтому при их изготовлении нет необходимости в проводящей подложке. Утомление многощелочных фотокатодов наступает при плотностях тока, превышающих несколько миллиампер на сантиметр квадратный, т. е. более чем на три порядка превышающих, предельные токи Sb-Cs-фотокатодов. По всем параметрам многощелочные фотокатоды превосходят сурь-мяно-цезиевые, однако технология их изготовления значительно сложнее. Она допускает широкое варьирование последовательности введения щелочных металлов и режимов обработки. Изготовление фотокатода происходит путем обработки тонкого слоя сурьмы последовательно парами калия и натрия, затем полученное двухщелочное соединение обрабатьшается в парах цезия до получения на поверхности моноатомной пленки. На рис. 11.3 (кривая 7) была приведена спектральная характеристика одного из многощелочных катодов. Длинноволновый порог фотоэффекта фотокатода находится в ближней ИК области спектра Xq =900 нм. Висмуто-серебряно-цезиевый (Bi-Ag-0-Cs) фотокатод имеет спектральную характеристику, близкую к кривой видности глаза (рис. 12.6), поэтому он нашел широкое распространение в фотоэлектронных приборах телевизионной техники и для колориметрических измерений. Процесс изготовления полупрозрачного Вг-А£-0-С8-фо-токатода состоит в последовательном напьшении на стекло тонких (толщиной 4-5 нм) пленок висмута и серебра с последующим окислением серебра кислородом и окончательной обработкой в парах цезия. Световая чувствительность этих фотокатодов такая же, как у сурьмяно-цезиевых (до 100-120 мкА/лм), квантовый выход не превьпиает 0,1, плотность тока термоэлектронной эмиссии при комнатной температуре составляет 10"* А/см. - Двухщелочные фотокатоды Na2 KSb и Кг CsSb образуются при взаимодействии сурьмы с двумя щелочными металлами. Световая чувстви- 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 [48] 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 0.0265 |
|