|
Главная -> Конструктирование оптикоэлектронной аппаратуры 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 [77] 78 с участием изоэлектронной примеси азота 44 Изотермы: ликвидуса 84 солидуса 84, 86 Имплантация 99, 100 Индикаторы: активные 8 вакуумно-люминесцентные 8 вакуумно-накальные 8 газоразрядные 8-10 жидкокристаллические на твист-эффекте 11 на эффекте «гость - хозяин» 12 пассивные 8 сравнительный анализ 13 электролюминесцентные 8, 10 Индикаторы полупроводниковые: гибридные 108 на принципе рассеяния света 109 классификация 108 конструкции 108 космоцветные 152 монолитные 108, ПО разновидности 15 Интенсивность отказов 180 Карбид кремния 135, 136 Катастрофический отказ 130, 183 Квантовый выход: внешний 63 внутренний 32 Кластеры 172 Код: ASC II 17 " • , . двоичный 190 . десятичный 190 Коммутация: перекрестная 129, 194 сегментная 196 Компаунд: полимеризация 182 характеристики оптические 105 термические 105 Контакт: конфигурация 127 омический 137, 144 отражающий 113, 120 сплошной 120, 128 Контраст: цветовой 149 яркостный 21 Контрастность 21 Корпус: керамический 106, 107 рамочный 106. 107 стеклотекстолитовый 10, 107 технология изготовления 107 характеристики 107 Коэффициент: активности 85 вывода излучения 65, 111-113, 121 инжекции 67, 73 переизлучения 65, 72 пересыщения 90 поглощения 112 полезного действия 33 преломления 111, 131 пропускания 24, 111 Пуассона 87 распределения 86, 134, 143 , стехиометрии 90 термического расширения 94 увеличения линзы 114 Кривая видности 139 Кристалл-излучатель: конструкция 120 технология 104 Легирование: промежуточное 42 сильное 42 слабое 42 Лейкосапфир 138 Линзы: моноблочные ПО иммерсионные 113, 125 Люмен-амперные характеристики: в импульсном режиме 177, 178 в статическом режиме 177 Люмен-вольтные характеристики: 173. Люминофор 135, 152 Модель: * • Голда-Вайсберга 166 \ диэлектрическая 85 Думке-Кейне-Стерна 155 Лонжини 166 Модули шкал: гибридные 130 конструирование 130, 131 монолитные 130 характеристики 131 Модули экранов: гибридные 127 конструирование 127-131 монолитные гибридные 128" монолитные 128 характеристики 131 Монтаж кристалла: пайкой эвтектическим сплавом 104 токопроводящим клеем 104 Мощность: излучения 63, 65 рассеяния 191 Напряжение: обратное 158, 181 пробоя при линейном распределении примеси 182 в резком р-п переходе 182 прямое 29 Напряжения: механические 170 • термические 182 Область пространственного заряда 115 Оптимизация: непрямозонных структур 76-83 оптических характеристик 111-114 прямозонных структур 68-76 режимов эксплуатации 179-185 Оптическая запись информации 130 Отражение 22 Параметр взаимодействия 84 Параметрический ряд: на величину прямого тока 30 на высоту знака 19 на количество элементов в разряде 19 на размер 19 на шаг между разрядами 19 Пиролиз 138, 203 Поверхностная рекомбинация 116, 146 Поликремний 127°, 128, 202 Политип 136 Потери. обусловленные зеркальным отражением 111 связанные с полным внутренним отражением 111 Приближение: виртуального кристалла 41 квазирегулярное 84 квазихимическое 84 Примесная зона 42 Разделение пластин на кристаллы 104 Рассогласование постоянных решетки 141, 143 Режим питания: импульсный 176, 184 статический 176, 184 Ресурс: ••- 95-процентный 180 медианный 179 Сила света: импульсная 29 средняя 177 удельная 30 Сопротивление: дифференциальное 161, 178, 182 контактное 102, 112, 124 модуляции 176 объема полупроводника 176 тепловое 112, 128, 178, 180 Спектральное соответствие 131 Cтexнoмeтptя 88, 134 Стыковка бесшовная 129, 130 Твист-эффект 11 Температура: окружающей среды 180 р-п перехода 173 Температурная зависимость: длины волны излучения 158, 159 квантового выхода 155, 157 мощности излучения 159 обратного напряжения 159 прямого напряжения 158 силы света 160 скорости деградации 171 способы управления 161-164 Теория эффективной массы 38, 40 Технология получения: диэлектрических покрытий 101 кристалла 95-104 омических контактов 101, 102 сборки и монтажа 104-108 структур 84-94 Трехкомпонентные твердые растворы: ALGai-xAs 37 ALGa.-xP 140-142 GaAsi--:tP.x 37 ln, :.ALP 142-143 In, Ga:<N 153 ln,-,,GaxP 139, 140 ZnSi:cSe.x 144 Угловой размер 18 Управление индикаторами: мультиплексное 189, 192-194 с памятью 189, 194 на основе светоизлучающих ди-нисторов 196-197 параллельное 189-192 Фотолитография 102-104 Цветовой график 150, 151 Четырехкомпонентные твердые растворы: Ini-GarPi-zAsz 150 Ini :t-„Ga,:Al„P 146-149 Al:,Ga,-:.P;,Asi-„ 144-146 Ширина запрещенной зоны: • композиционная зависимость 36, 37 температурная зависимость 153, 154 Электролюминесценция: инжекционная 32, 34, 136 предпробойная 33, 34 Энергия: активации 170 ионизации акцепторных примесей 37. 40, донорных примесей 37 изоэлектронной примеси азота 54, 78 Эпитаксия: жидкофазиая 84-89, 134, 139, 142, 146 из газовой фазы 89-94, 133, 134 молекулярно-лучевая 94 Эффект: . «гость-хозяин» 12 динамического рассеяния света 11 зонной структуры 146 многопроходности 112 люминесценции управления полем двойного преломления 12 управления полем фазового хода 12 Эффективная масса: плотности состояний 35 поперечная 36 проводимости 36 продольная 36 Явление псевдоморфизма 87 луче-пере- 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 [77] 78 0.0112 |
|